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【中央日報】中国にも対応…韓国政府、半導体・ディスプレー「国家核心技術」内部取り締まり強化[8/13]

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韓国政府が半導体・ディスプレー・二次電池など国家核心技術に対する「内部取り締まり」を強化する。産業通商資源部はこうした内容の産業技術保護法改正案が国務会議を通過したと13日、明らかにした。パク・ゴンス産業部産業革新成長室長は「中国などに半導体・ディスプレーのような国家核心技術が流出して国家間の産業格差が縮小し、グローバル企業間の核心技術戦争が激化したことに伴う措置」と説明した。 

  改正案の核心は大きく3つある。まず、不当な利益を得る目的で国家核心技術を海外に流出させる場合「3年以上の有期懲役」に処罰を強化する。従来は核心技術を海外に流出する場合、一般産業技術と同じく「15年以下の懲役」だった。 

  技術侵害に対する「懲罰的損害賠償制」も導入する。営業秘密侵害のように故意に技術を侵害した場合、該当企業に生じた損害額の最大3倍まで賠償するという内容だ。 

  外国資本に対する参入障壁も高める。外国企業が国家核心技術を保有する企業をM&A(企業の合併・買収)する場合、政府に申告しなければならない。従来は国家研究開発(R&D)資金の支援を受けて開発した国家核心技術を保有する企業をM&Aする場合に限り申告することになっている。パク・ゴンス室長は「独自で開発した核心技術保有企業をM&Aする場合も申告して審査を受けなければならず、技術保護が強化されると期待している」と述べた。 

  パク室長は「新しい核心技術を開発・確保することほど、保有中の核心技術を守って活用することも企業の競争力向上に重要だ」とし「産業技術流出根絶対策を持続的に推進していく」と述べた。改正案は公布から6カ月後の2020年2月に施行される。

https://japanese.joins.com/article/530/256530.html?servcode=300&sectcode=320&cloc=jp|main|top_news
[ⓒ 中央日報/中央日報日本語版]2019年08月13日 14時12分

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